我想了解计算过程如何导致处理器变热。我知道热量是由晶体管产生的。
- 晶体管究竟是如何产生热量的?
- 芯片数量和产生的热量之间的相关性是线性的吗?
- CPU 制造商是否会优化单个晶体管的位置以尽量减少产生的热量?
我想了解计算过程如何导致处理器变热。我知道热量是由晶体管产生的。
晶体管(FET,在现代 IC 中)永远不会立即从完全关闭切换到完全开启。在开启或关闭时有一段时间 FET 就像一个电阻器(即使完全开启它仍然有一个电阻)。
如您所知,通过电阻器的电流会产生热量(\$P=I^2R\$ 或 \$P=\frac{V^2}{R}\$)。
晶体管开关越多,它们在电阻状态下花费的时间就越多,因此它们产生的热量就越多。因此,产生的热量可以与晶体管的数量成正比——但它也取决于哪些晶体管在什么时候做什么,这取决于芯片被指示做什么。
是的,制造商可能会将其设计的特定模块(不是单个晶体管,而是形成完整功能的模块)放置在某些区域,具体取决于模块可能产生的热量 - 要么将其放置在具有更好热粘合性的位置,要么放置它远离另一个可能产生热量的块。他们还必须考虑到芯片内的功率分布,因此任意放置块可能并不总是可行的,因此他们必须做出妥协。
任何不是超导体的东西中的所有电流都会产生热量。在芯片中,它主要在铝“金属”层中流动(为什么不是铜呢?事实证明,它与硅的其他部分发生了令人讨厌的化学相互作用)。
是什么导致电流流动?每次晶体管改变状态时,都可以将其建模为电容器(驱动逻辑门的 FET 栅极加上寄生导线电容)通过导线和前一个栅极的输出 FET 充电/放电。这是“切换”或“动态”电源。它与开关速度和电压的平方成正比;因此从 5V 驱动到 3.3V 再到 1.8V 以提高效率。
绝缘体并不完美,有些地方很薄。晶体管可能没有完全“关闭”。如果一个 FET 的关断电阻为 1 兆欧,并且你将其中的一百万个并联,它看起来就像一个 1 欧电阻。这就是“泄漏”的力量。它与晶体管的数量成正比。
我在一家初创公司工作了十年,致力于优化电源。:) 有很多技术:速度/泄漏权衡(“高 k 金属门”)、完全关闭部分电路、时钟门控、降低时钟频率、尺寸和布局。
很简单,我们知道根据焦耳定律,每当电子流过导体时,由于材料的电阻而产生的热量,因为每个导体中都有一定的电阻。
1)任何时候有电流流动,电子的碰撞都会产生热量。2)是的,通常,相关性是线性的。3) CPU 制造商不太可能优化单个晶体管的位置,以尽量减少产生的热量(它们都在同一个外壳内)。
当 CPU 处于“空闲”状态时,尽管它使用的电流最少,但它会产生热量。当处理器开始“处理”信息时,各个晶体管会切换状态。这种切换也会产生热量。此外,开关频率影响发热率,频率越高发热率越高。由于芯片的散热能力是固定的,因此如果以高于设计运行频率的频率运行,它可能会过热。